台積電叛將羅唯仁遭控竊密跳槽英特爾！專家揭致命弱點

台積電於25日正式對前資深副總經理羅唯仁提起訴訟，指控其在7月底退休時，涉嫌攜帶大量先進製程相關機密資料，並於10月底加入競爭對手英特爾擔任執行副總裁（Executive Vice President），引發外界對機密外洩的高度關注。台積電認為羅唯仁違反聘僱契約與《營業秘密法》，已向智慧財產及商業法院提起訴訟，並要求違約賠償。

台積電指出，羅唯仁自1994年進入公司，歷任副總經理及資深副總，並於2024年被調任至「企業策略發展部」，該部門主要負責提供董事長與總裁的策略建議，並不涉及研發管理。然而，調任後的羅唯仁仍要求研發部門提供先進製程的相關資料，顯示其對台積電的技術規劃有深入了解。台積電法務長方淑華表示，羅唯仁離職前已被提醒競業禁止義務，但他當時聲稱將轉往學術機構，未提及加入英特爾。

針對羅唯仁跳槽英特爾的影響，業界專家持保留態度。《中央社》引述半導體專家分析，羅唯仁早期曾參與研發工作，但近年主要負責管理與策略規劃，對於半導體前段製程技術已不如當年熟悉，且對中後段先進封裝技術相對陌生。因此，即便羅唯仁加入英特爾，對其技術突破的幫助可能有限。

此外，英媒《Tom’s Hardware》報導指出，台積電與英特爾的製程技術路線存在巨大差異。例如，英特爾18A製程採用「圖案成形」（Pattern Shaping）技術，而台積電的2奈米製程並未採用；台積電A16晶片使用「超級電軌」（SPR）背面供電技術，而英特爾18A則採用「PowerVia」技術，兩者在原理上差異甚大。此外，英特爾計畫在14A製程中採用高數值孔徑的極紫外光（High-NA EUV）設備，而台積電仍依賴低數值孔徑的EUV工具搭配多重曝光技術。

專家認為，台積電的技術know-how對英特爾工程師的參考價值極低，但對於英特爾的競爭分析團隊來說，仍具一定的戰略意義。儘管如此，僅憑羅唯仁一人，難以顯著提升英特爾的整體技術水準。

台積電的法律行動已經引發產業關注，外界將持續觀察這場訴訟的後續發展，以及羅唯仁跳槽事件是否會對兩大半導體巨頭的競爭格局產生實質影響。

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